GCD-3000大流量氫氣發生器多臺色譜制氫機儀器特點：
1. 壓力、流量自動顯示，自動恒壓、恒流，氫氣流量可根據用量實現全自動調節。
2. 雙支不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），氫氣純度更高；儀器內部采用硅橡膠圈(含硫量低)，有效提高氣體質量，保證色譜基線平穩。
3. 配有安全裝置，靈敏可靠，自動防返堿。

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產品詳情

品牌	BCHP/北京中惠普	產地	國產
能耗 (舉例：100W)	400W	氫氣純度	99.999%
輸出流量	0-1000ml/min	輸出壓力	0-0.4Mpa

氫氣發生器

GCD-3000

GCD-3000大流量氫氣發生器多臺色譜制氫機儀器結構：

氫氣發生器由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥、開關電源等部件組成。只電解純水即可產氫。通電后，電解池陰極產氫氣，陽極產氧氣，氫氣進入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進入干燥器除濕后，經穩壓閥、調節閥調整到額定壓力（0.02～0.45Mpa可調）由出口輸出。電解池的產氫壓力由傳感器控制在0.45Mpa左右，當壓力達到設定值時，電解池電源供應切斷；壓力下降，低于設定值時電源恢復供電。

GCD-3000大流量氫氣發生器多臺色譜制氫機儀器特點：

1. 壓力、流量自動顯示，自動恒壓、恒流，氫氣流量可根據用量實現全自動調節。
2. 雙支不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），氫氣純度更高；儀器內部采用硅橡膠圈(含硫量低)，有效提高氣體質量，保證色譜基線平穩。
3. 配有安全裝置，靈敏可靠，自動防返堿。

GCD-3000大流量氫氣發生器主要技術參數：

1. 氫氣純度：99.999%
2. 氫氣流量：0-3000ml/min
3. 輸出壓力：0-0.4Mpa
4. 壓力穩定性：< 0.001MPa
5. 供電電源：220V±10%, 50Hz

同系列產品技術參數：

型號	流量	儀器特點
DH-300	0-300ml/min	全自動控制，不存儲氫氣，有水位、超壓的安全裝置，純度99.99999%
DH-500	0-500ml/min	全自動控制，不存儲氫氣，有水位、超壓的安全裝置，純度99.99999%
TH-300	0-300ml/min	采用離子膜制氫技術，無需加堿，直接電解純水（去離子水、二次蒸餾水），優點：不污染色譜的任何部件。純度：優于99.999%，壓力：0-0.4MPa
TH-500	0-500ml/min
TH-1000	0-1000ml/min
SPH-200	0-200ml/min	體積小，重量輕，單級過濾，壓力0.3MPa，自動防返堿，純度99.999%
SPH-300A	0-300ml/min	單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999%
SPH-300	0-300ml/min	兩級不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩檔可調，自動防返堿，純度99.999%
SPH-500A	0-500ml/min	單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999%
SPH-500	0-500ml/min	兩級不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩擋可調，自動防返堿，純度99.999%
GCD-1000	0-1000ml/min	大流量，可同時帶多臺色譜，自動防返堿，純度99.999%
GCD-3000	0-3000ml/min	安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業
GCD-6000	0-6000ml/min	安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業
GCD-9000	0-9000ml/min	安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業

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